산업

삼성전자, 2030년까지 시스템 반도체 133조원 투자···1만5000명 직접 고용

발행일시 : 2019-04-24 13:40

시스템 R&D에 73조 생산 인프라 구축 60조원 투자

삼성전자가 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다. 글로벌 최고 수준인 자사 시스템 반도체 인프라와 기술력도 중소 관련 기업과 공유해, 국내 시스템 반도체 업계 전반의 경쟁력도 높인다는 방침이다.

삼성전자는 24일 메모리 반도체에 이어 시스템 반도체 부문에서도 글로벌 1위를 달성하는 '반도체 비전 2030' 전략을 발표했다. 시스템 반도체 사업 경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자하는 것이 골자다. 

삼성전자 클린룸 반도체 생산현장 [사진=삼성전자] <삼성전자 클린룸 반도체 생산현장 [사진=삼성전자]>

천문학적 투자가 이뤄지는 것으로 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성은 물론 국내 장비⋅소재 업계계의 동반 성장 등 시스템 반도체 생태계 전반의 발전에 긍정적인 영향을 끼칠 것으로 기대된다.

삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진한다. 기술경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만5000명도 채용할 계획이다. 이 계획이 실현되면, 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되는 것이고 생산량 증가에 따라 42만명의 간접 고용효과가 예상된다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간을 단축할 수 있도록 삼성전자가 갖고 있는 IP(설계자산)도 지원한다. 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 도구 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.

반도체 위탁생산 물량 기준도 완화, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극 지원할 계획이다. 여기에 국내 중소 팹리스 기업이 개발에 필수적인 MPW(Multi Project Wafer) 프로그램을 공정당 연 2~3회로 확대 운영하며, 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대한다.

김민수 기자⋅김광회 기자 min@nextdaily.co.kr

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